氮化硅壓力燒結爐主要用于反應燒結碳化硅、氮化硅結合碳化硅的真空燒結行業(yè)。被廣泛應用于軍工、衛(wèi)生及建筑陶瓷、航空航天、冶金、化工、機械、汽車等領域。

 

　　氮化硅壓力燒結爐主要由爐體、真空機組、加熱系統(tǒng)、加壓系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、電器控制等部分組成。

　　爐體部分由爐蓋、爐體、爐底組成，爐蓋、爐體和爐底均為雙層水冷結構，內通冷卻水，保證真空爐在加熱時，逃逸出來的熱量不致爐壁溫度過高。

　　真空機組由真空泵，擋板閥、放氣閥以及真空測量裝置組成。液壓系統(tǒng)主要由上橫梁、底座、立柱、油站、油缸、上下壓頭、壓力傳感器等組成。

　　加熱系統(tǒng)由引出電極、發(fā)熱體、隔熱屏、連接導線等組成。加熱系統(tǒng)由連接導線從降壓變壓器的輸出端連接到低壓電源，再經引出電極與發(fā)熱體連接。隔熱屏固定在爐體內，與發(fā)熱體保持一定距離，對發(fā)熱體與爐體之間進行隔離，用于對工作區(qū)進行保溫。

 

　　特點：

　　1、高的溫度均勻性和熱效率；

　　2、多區(qū)獨立控溫 、真空分壓功能；

　　3、采用特殊的爐膽結構和加熱器布置，爐溫均勻性好；

　　4、全密閉馬弗，密封效果好，抗污染能力強；

　　5、多種冷凝捕集方式減少機組污染；

　　6、氮氣吹掃系統(tǒng)絕緣更好，脫脂更*；

　　7、可具備真空燒結、壓力燒結、負壓脫脂燒結等功能。